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KRi 射频离子源应用于车载摄像头镜片镀膜工艺
KRi 射频离子源应用于车载摄像头镜片镀膜工艺, 实现车载镜头减反, 塑胶镜片增透车载镜头的镀膜非常重要, 镀膜的核心用途就是增加透光率. 先进的镀膜技术可以最大限度地减少反光, 通过减少光在折射
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KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺
KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺树脂为手机行业目前最常用的镜片基材, 为了减少镜片反射, 提升透过率, 会在镜片表面镀 AR 增透膜 (减反膜), 它是一种硬质耐热氧化膜, 可在
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KRi 射频离子源应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺
KRi 射频离子源应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺上海伯东某客户为精密光学镀膜产品生产商, 生产过程中需在白玻璃上进行镀膜. 由于国产镀膜设备在射频和光控性能方面的限制, 镀制过程易出现温漂现象
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 380
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KRi 射频离子源 RFICP 100 应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD
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芯硅谷镜片盒
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美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机
某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH
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KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺
KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR 工艺配备 800万或以上像素的高端手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR Coating 的镀膜, 可以增加透光率和反射红外光. 光线在透过
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KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
一次气源为惰性气体, 二次气源为惰性或反应性气体基板远离溅射目标工艺压力在小于× 10-4 torr离子源在离子束溅射沉积工艺过程: 上海伯东美国 KRi 射频离子源优势提供致密, 光滑, 无针孔
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